適用于研究開發(fā)的小型等離子清洗機。
使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式高性能型號,調取數(shù)據(jù)簡單,以電子材料為中心,可對應多種用途。
■用途
● CSP、BGA、COB基板的等離子清洗
● 去除有機膜和金屬氧化膜
● 印刷電路基板的干式清洗
● 界面活性處理
● LED封裝
■特征
● DP模式(PDC510標配·PDC200/210選配)
● RIE模式
● 均勻性高的電極構造
● 操作簡單的觸摸屏控制器
■規(guī)格
■內槽
■構成圖
適用于研究開發(fā)的小型等離子清洗機。
使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式高性能型號,調取數(shù)據(jù)簡單,以電子材料為中心,可對應多種用途。
■用途
● CSP、BGA、COB基板的等離子清洗
● 去除有機膜和金屬氧化膜
● 印刷電路基板的干式清洗
● 界面活性處理
● LED封裝
■特征
● DP模式(PDC510標配·PDC200/210選配)
● RIE模式
● 均勻性高的電極構造
● 操作簡單的觸摸屏控制器
■規(guī)格
■內槽
■構成圖
復制成功
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